Politécnico de Leiria lidera en Diseños o Modelos nacionales

Institución de educación superior distinguida por el INPI por el elevado número de registros de Propiedad Industrial.

Imagen genérica de un documento de patente con sellos oficiales y dibujos intrincados, sobre un escritorio de madera con una lupa y un bolígrafo.
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Imagen genérica de un documento de patente con sellos oficiales y dibujos intrincados, sobre un escritorio de madera con una lupa y un bolígrafo.

El Politécnico de Leiria (IPLEIRIA) fue distinguido por el Instituto Nacional da Propriedade Industrial (INPI) por ser la institución de educación superior con el mayor número de Diseños o Modelos nacionales en vigor, a fecha de enero de 2026.

La distinción fue entregue el 16 de octubre, en Lisboa, durante la conferencia internacional conmemorativa del 50.º aniversario del INPI. Este reconocimiento refuerza el trabajo que la universidad ha venido desarrollando en la valorización del conocimiento y la protección de los resultados de la investigación.
Entre 2022 y 2025, el IPLEIRIA presentó 23 solicitudes de registro de Diseños o Modelos, de las cuales 22 fueron concedidas. En el mismo período, se presentaron igualmente 38 solicitudes de patente, habiendo sido concedidas 21.
Una parte significativa de los Diseños o Modelos registrados tiene origen en proyectos desarrollados en la Escola de Artes e Design das Caldas da Rainha (ESAD.CR) y en el LiDA – Laboratório de Investigação em Design e Artes, reflejando una formación orientada a la excelencia y a la creación de valor.
El GAPI – Gabinete de Apoio à Propriedade Intelectual da ULO desempeña un papel estratégico en la promoción de una cultura de protección de la propiedad industrial y en la prestación de apoyo a docentes, investigadores y estudiantes.
La universidad busca crear condiciones para que el conocimiento recorra todo el camino entre la investigación y su utilización por la sociedad y la economía, a través de licenciamiento, proyectos colaborativos y creación de nuevas empresas.
Información elaborada a partir de la fuente oficial: Politecnico de Leiria (IPLeiria) (02/11/2026)